超聲波清洗器空化閾值和超聲波的頻率有密切關系。頻率越高，空化閾越高，換句話說，頻率越高，在液體中要產(chǎn)生空化所需要的聲強或聲功率也越大；頻率低，空化容易產(chǎn)生，同時在低頻情況下，液體受到的壓縮和稀疏作用有更長的時間間隔。

使氣泡在崩潰前能生長到較大的尺寸，增高空化強度，有利于清洗作用。目前超聲波清洗器的工作頻率根據(jù)清洗對象，大致分為三個頻段；低頻超聲清洗(20一50KHz)，高頻超聲清洗(50—200KHz)和兆赫超聲清洗(700KHz一1MHz以上)。低頻超聲波清洗器適用于大部件表面或者污物和清洗件表面結合強度高的場合。頻率的低端，空化強度高。

易腐蝕清洗件表面，不適宜清洗表面光潔度高的部件，而且空化噪聲大。超聲波清洗器40KHz左右的頻率，在相同聲強下，產(chǎn)生的空化泡數(shù)量比頻率為20KHz時多，穿透力較強，宜清洗表面形狀復雜或有盲孔的工件，空化噪聲較小。但空化強度較低，適合清洗污物與被清洗件表面結合力較弱的場合，高頻超聲清洗適用于計算機。

微電子元件的精細清洗，如磁盤、驅(qū)動器，讀寫頭，液晶玻璃及平面顯示器，微組件和拋光金屬件等的清洗。這些清洗對象要求在清洗過程中不能受到空化腐蝕。要能洗掉微米級的污物。兆赫超聲波清洗器適用于集成電路芯片、硅片及簿膜等的清洗。能去除微米、亞微米級的污物而對清洗件沒有任何損傷。

因為此時不產(chǎn)生空化。超聲波清洗器清洗機理主要是聲壓梯度。粒子速度和聲流的作用。特點是清洗方向性強，被清洗件一般置于與聲束平行的方向。